半導體膜厚測試儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業提升產品質量與研發效率。

型號：HD-FT50NIR

更新日期：2026-03-10

￥面議

反射式光學膜厚儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域，能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業提升產品質量與研發效率。

型號：HD-FT50NIR

更新日期：2026-03-10

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非接觸式膜厚測量儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。能滿足從晶圓鍍膜、顯示面板薄膜到光學元件鍍膜、醫用植入物涂層、汽車玻璃膜層及新能源薄膜的高精度厚度檢測需求，助力各行業提升產品質量與研發效率。

型號：HD-FT50UV

更新日期：2026-06-17

￥89000

光學膜厚儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

型號：HD-FT50UV

更新日期：2026-06-17

￥89000

反射膜厚測量儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

型號：HD-FT50UV

更新日期：2026-06-17

￥89000

反射膜厚儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗干擾能力強，在振動或復雜環境下也能穩定工作。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學器件制造、生物醫學、汽車及新材料與新能源研發等領域。

型號：HD-FT50UV

更新日期：2026-06-17

￥89000